中日两国学者研讨铁电材料及其应用

11月14日至17日，第三届中日铁电材料及其应用会议在湘潭召开，来自中日两国的知名学者，围绕铁电材料的基础问题和应用技术进行了深入而广泛的学术交流，共同研讨铁电材料的研究和应用。

香港理工大学应用物理系教授、IEEE高级会员H.L.W.Chan，中国科学院上海硅酸盐研究所信息功能材料与器件研究中心李国荣研究员，南京大学刘俊明教授，清华大学李敬锋教授，863专家组专家、北京大学董蜀湘教授， IEEE Fellow、日本芝浦大学校长办公室顾问Adashi Shiosaki教授，日本山梨大学材料科学与技术专业Satoshi Wada教授，国际著名功能陶瓷专家、日本东京工业大学Takaaki Tsurumi教授等来自中日双方的110名专家代表出席了会议。我校副校长周益春教授出席了会议并致辞，湖南省“芙蓉学者”特聘教授、会议执行主席王金斌教授主持开幕式。

铁电材料是一类重要的功能材料，在过去的 20 年间，铁电材料在基础研究和应用方面取得了许多重大的突破。中国和日本是世界上铁电材料研究最活跃的两个国家。此次会议覆盖领域广泛，包括铁电材料工艺及材料表征、铁电材料物理与化学、铁电材料的应用及器件设计（包括铁电、压电、热释电及光学应用）、多铁性体及铁电材料的最新进展。会议还邀请了日本TDK公司等6家从事铁电产品开发的公司参会，为与会学者和企业间搭建了合作桥梁，共同探讨铁电材料与器件的商业化应用。

此次会议与会代表都是国际、国内的知名学者，他们在铁电材料及其应用等研究领域均作出了突出的贡献。会议期间，通过专题学术报告、学术沙龙等形式，与会代表对国际铁电材料的各个研究领域进行广泛的研讨，深入分析了铁电材料从基础研究到商业应用等领域亟需解决的关键科学问题，并对未来铁电材料研究的发展趋势进行了前沿探讨。来自中国、日本、美国、俄罗斯和加拿大的著名铁电领域专家做了16个邀请报告，湘潭大学、复旦大学、中国科学院上海硅酸盐研究所和山东大学的5位青年学者获得优秀墙报奖。

业内人士认为，会议的召开不仅使我们了解到国际最新研究动态，在铁电薄膜存储器领域的研究工作也将更加深入、完善，从而突破技术瓶颈，进一步推动铁电存储器的商业化，而且为中日两国科学家的科学研究及学术交流搭建了更加广阔的平台。同时，可以更好地构建成熟、常态的人才合作培养机制，建立访问学者交流计划及研究生交流培养计划，为铁电领域的发展培养新一代的生力军。

近年来，我校与日方科研团队已经开展了广泛的合作。由我校低维材料及其应用技术教育部重点实验室(负责人:周益春)与东京工业大学 Frontier Research Center(负责人:Hiroshi Iwai)联合开展的“高介电薄膜与铁电场效应晶体管的保持性能调制”国际合作项目，集合了中日双方各自的优势，致力于研究高质量High-k 薄膜用于FeFET 能有效的降低漏电流和抑制界面层，从而提高FeFET 的保持性。合作双方分别在铁电薄膜材料与器件和High-k 栅介质领域优势互补，可极大地促进FeFET 保持失效研究，进而推动FeFET 商业化。

中日铁电会议是在两国科学家共同倡导下举行的国际学术交流会议，旨在促进中日两国科研工作者在铁电材料的基础问题和应用技术领域的广泛交流与合作。此次会议由我校低维材料及其应用教育部重点实验室承办。

                                                               （《湘潭大学报》记者 蒋海文）